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高大的拱形门廊投下庄重的阴影，门楣上，“国家科学院”几个鎏金大字在午后阳光下熠熠生辉。空气里弥漫着一种截然不同的味道——洁净的消毒水气息混合着精密仪器特有的、冰冷的金属油味。走廊宽阔明亮，一尘不染的大理石地面映出他从容的身影。偶尔有穿着白大褂或严谨西装的研究员步履匆匆地走过，低声交谈着晦涩的术语，带着一种心无旁骛的专注。警卫的目光在他胸前佩戴的特殊通行证上短暂停留，随即移开，带着一丝不易察觉的敬意。
他推开一间中型报告厅厚重的橡木门。里面光线柔和，巨大的投影屏上，正展示着复杂到令人目眩的光刻机光学系统分解图。头发花白、戴着金丝边眼镜的老教授李光楠院士站在台上，声音透过麦克风清晰地传遍整个空间：“……目前我们面临的核心瓶颈，在于193nm深紫外光源的稳定性和掩膜版材料的透射率极限。下一代EUV光刻技术，其13.5nm的极紫外光源的产生与聚焦控制，将是决定性的突破点……”
台下坐着的，无不是领域内举足轻重的学者、项目负责人。他们或凝神倾听，或飞速记录，眉头紧锁，眼神里是对未知疆域最深的探求与凝重。整个空间弥漫着一种无形的重量，那是前沿科技攻坚克难所特有的、令人屏息的庄严感。
曾子轩悄无声息地在后排一个空位坐下。他身体微微前倾，目光专注地落在那些复杂的结构图和物理公式上，听得极其认真，仿佛这深奥的讲座内容正是他此刻最渴求的养分。偶尔，他修长的手指在随身携带的硬皮笔记本上快速划过几笔，记下的并非具体的公式推导，更像是一些关键节点的符号或简略的思考方向。他沉静的姿态，与报告厅里弥漫的肃穆氛围融为一体，毫无违和感。
“……因此，多层膜反射镜的精确镀膜工艺，是承载EUV光能否成功聚焦的关键命门。”李院士的讲解告一段落，目光扫视全场，“在座的各位同仁，对此有什么见解或疑问吗？”
短暂的静默后，曾子轩清越的声音在安静的厅堂里响起，不高，却清晰地传到每个角落：“李院士，关于多层膜反射镜的热形变补偿问题。考虑到EUV光源本身的高热负载，是否可以在膜层结构设计中，预先引入基于拓扑优化的微纳应力调节机制？比如，参考‘莫比乌斯环’在纳米尺度上的应力分布特性，进行仿生设计？”
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